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日本、美光へ最大1900億円の補助検討 半導体安定供給促進

  • 日本経済産業省が、美国の半導体企業メモリー(Micron)の広島工場に最大1900億円の補助金を提供することを検討している。
  • これは、半導体の安定供給を促進するためのものであり、半導体は経済安全保障上の重要な物資として位置づけられている。
  • メモリーは、広島工場に最先端の装置である極端紫外光(EUV)リソグラフィ装置を導入し、新世代のDRAMの量産を2026年から計画している。
  • 経済産業省は、半導体関連予算として2021年と2022年の合計で2兆円以上を確保しており、広島工場の装置投資に最大465億円の補助金を提供することが既に決定されている。
  • また、経済産業省は、台湾の半導体製造会社TSMCの熊本工場に最大4760億円の補助金を提供するなど、半導体産業基盤の強化に取り組んでいる。

经产省探讨向美光科技提供1900亿日元补贴

  【共同社9月29日电】29日采访相关人士获悉,日本经济产业省正在探讨向美国半导体巨头美光科技的广岛工厂(广岛县东广岛市),提供最多1900亿日元(约合人民币93亿元)规模的补贴。此举旨在促进被作为经济安全保障上重要物资的半导体的稳定供应。经产省将于近期发布消息。   美光将在广岛工厂引进最尖端生产设备“极紫外光(EUV)光刻装置”,创日本国内先河。还计划2026年起量产新一代DRAM(动态随机存取存储器)。该公司已宣布计划今后数年在日本投资最多5000亿日元。   经产省在2021和2022年度确保了合计超过2万亿日元的半导体相关预算。已决定向美光广岛工厂的设备投资提供最多465亿日元补贴,今后将追加。   经产省决定了向“台湾积体电路制造”(TSMC)熊本工厂提供最多4760亿日元补贴等,正在加紧强化半导体产业基础。(完)
ソース:https://china.kyodonews.net/news/2023/09/1cc20b1cc320-1900.html
  1. Micronは最先端の生産設備を広島工場に導入し、日本国内で初めて極紫外線(EUV)リソグラフィ装置を導入する予定です。また、2026年からは新世代のDRAMの量産も計画しています。経済産業省は、半導体関連の予算を2021年度と2022年度に合計で2兆円以上確保しており、Micronの広島工場への設備投資に最大465億円の補助金を提供することを決定しました。さらに、台湾の半導体製造大手であるTSMCの熊本工場にも最大4760億円の補助金を提供することが決まっています。日本の半導体産業の基盤強化が進んでいることがわかりますね。

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