日本経済産業相、米国の半導体大手メモリーアカウンタに対し920億円の補助金提供を発表

• 日本の経済産業相は、半導体大手の米国メーカー、メモリーメーカーのMicron Technologyの広島工場に対して最大1920億円の助成金を提供することを発表しました。
• これは、すでに決定されている最大465億円の助成金に加え、経済安全保障の重要性の向上を目指し、半導体供給チェーンを強化するための追加の助成金です。
• Micronは広島工場に、日本で初めて導入される最先端の製造装置であるEUV(極紫外)光刻装置を設置する予定です。
• 新しい世代のDRAM(動的ランダムアクセスメモリ)を駆使したAIや自動運転用の生産を、2026年からの10年間で月約4万枚程度行う予定です。
• Micronは今年5月、広島を含む日本国内で最大5000億円の投資計画を発表しました。
• 政府の助成金には、最大1670億円の設備投資費用と最大250億円の研究開発費が含まれています。
• 半導体は国家力に関わる重要な産業であり、各国政府は助成金を通じて誘致を強化しています。
• 日本政府も半導体生産基盤を強化するため、台湾の半導体メーカーであるTSMCの熊本工場に最大4760億円、国内大手企業であるカイカに最大929億円の助成金を決定しました。
• 経済産業相は、需要の増加が見込まれる領域への積極的な投資が重要であると指摘し、半導体の供給安定を実現することを目指すと述べました。

经产相宣布向美光科技提供1920亿日元补贴

　　【共同社10月3日电】日本经济产业相西村康稔3日在内阁会议后的记者会上宣布，向美国半导体巨头美光科技的广岛工厂（广岛县东广岛市）提供最多1920亿日元（约合人民币93亿元）的补贴。此前已决定提供最多465亿日元补贴，有意通过增额强化在经济安全领域重要度上升的半导体供应链。 　　美光打算在广岛工厂设置日本首次引进的最尖端制造设备极紫外线（EUV）光刻装置。围绕用于生成式人工智能（AI）贺自动驾驶的新一代DRAM（动态随机存取存储器），计划在2026年起的10年时间里进行每月4万枚左右的生产。 　　美光今年5月公布了包括广岛在内的在日本国内最多投资5000亿日元的计划。此次政府补贴包含最多1670亿日元设备投资费用、最多250亿日元研究开发费。 　　半导体事关国力，各国政府均通过补贴增加招商力度。日本政府也为强化半导体生产基础，决定了对台湾积体电路制造公司（TSMC）熊本工厂最多4760亿日元、对国内巨头铠侠最多929亿日元的补贴。西村在记者会上强调切实投资需求预期增长的领域很重要，表示力争实现半导体稳定供应。（完）